1200度小型PECVD系統

更新時間： 2025-02-27

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產品報價：

產品簡介： PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。集成型PECVD系統PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系統PECVD-12IH-4Z/G

詳細資料：

產品用途

PECVD系統是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。

產品組成

PECVD系統配置；

1.1200度開啟式滑動單溫區真空管式爐

2.等離子射頻電源

3.多路質量流量控制系統

4.真空系統（單獨購買）

產品特點

電源范圍廣；溫度范圍寬；濺射區域長；整管可調；精致小巧，性價比高，可實現快速升降溫，是實驗室生長薄膜石墨烯，金屬薄膜，陶瓷薄膜，復合薄膜等的理想選擇，也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。

系統名稱	集成型PECVD系統	1200℃小型PECVD系統
系統型號	PECVD-12IH-500A	PECVD-12IH-4Z/G
控制方式	液晶屏微PLC控制系統	手動
極限溫度	1200℃
加熱區長度	200mm
恒溫區長度	100mm
溫區	單溫區
石英管管徑	Φ60mm	Φ50mm
額定功率	1.2Kw	2Kw
額定電壓	220V
滑動方式及距離	自動滑動;200mm	手動滑動;200mm
溫度控制	30段程序控溫	50段程序控溫
控制精度	±1℃
爐管極限工作溫度	＜1200℃
氣路法蘭	采用多環密封技術卡箍快速連接
排風冷卻裝置	的空氣隔熱技術，結合熱感應技術，當爐體表面溫升到50℃時，排溫風扇將自動啟動，使爐體表面快速降溫。
氣體控制方式	質量流量計（按鍵式）
氣路數量	2路（2-4路）	4路（可根據具體需要選配氣路數量）
流量范圍	0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定
精度	±1%F.S
響應時間	1sec
工作溫度（流量計）	20-120℃
工作壓力	進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力）
進氣方式	采用防倒流設計
規格	中真空（集成型請單獨購買）
系統真空范圍	10Pa-100Pa
真空泵	雙級機械泵理論極限真空度3x10^-1Pa，抽氣速率4L/S（選配：其他抽速真空泵）,出氣口配有油污過濾器，額定電壓220V，功率0.55Kw
信號頻率	13.56MHz±0.005%
功率輸出范圍	0W-500W	0W-100W
大反射功率	350W	30W
射頻輸出接口	50Ω，N-type,temale
功率穩定度	±0.1%
諧波分量	≤-50dbc
供電電壓	單相交流（187V-253V)頻率50/60HZ
整機功率	≥70%
屏幕顯示	正方向功率，匹配器電容位置，偏置電壓值
爐體外形尺寸	290×350×340mm	290×350×495mm
系統外形尺寸	420×1440×1100mm	530×2310×750mm
系統總重量	270Kg